真空镀膜是利用真空环境下的物理或化学过程，在材料表面上形成一层膜的技术。其主要原理包括蒸发、离子镀、溅射等。
1. 蒸发镀膜：将需要镀膜的材料放入真空腔体中，加热材料至其熔点以上，使其蒸发成膜，然后在基材上形成一层薄膜。
2. 离子镀膜：将金属材料放置在真空腔体中，通过高电压的离子轰击金属材料，使其表面原子脱离并沉积在基材表面，形成一层薄膜。
3. 溅射镀膜：在真空环境下，通过离子束轰击固体靶材，使其表面原子释放出来，然后被沉积在基材表面，形成一层薄膜。
这些原理都是在真空环境下进行的，通过控制材料蒸发、离子轰击或溅射等过程，可以控制膜层的成分、厚度和结构，从而达到不同的功能要求。真空镀膜广泛应用于光学、电子、光电子、材料等领域。
